一种前驱体空间分隔式的自限制性表面吸附反应制备BiAlO<Sub>3</Sub>薄膜材料的方法,BiAlO<Sub>3</Sub>薄膜材料生长在衬底材料上,所述的BiAlO<Sub>3</Sub>薄膜材料的空间群为R3c,晶格常数为a=7.611?,c=7.942?;采用前驱体空间分隔式的自限制性表面吸附反应得到,所述表面吸附反应特指朗缪尔吸附机制的不可逆的化学吸附反应。通过采用本发明的制备BiAlO<Sub>3</Sub>薄膜材料的方法,可以实现BiAlO<Sub>3</Sub>薄膜生长厚度的精确可控,且BiAlO<Sub>3</Sub>薄膜表面平整度大大优于现有技术。由于各种气体的通入是连续不断、且流速恒定,薄膜的厚度仅取决于衬底转过的次数,工艺变得极为简单、可靠。
一种前驱体空间分隔式的自限制性表面吸附反应制备BiAlO<Sub>3</Sub>薄膜材料的方法,BiAlO<Sub>3</Sub>薄膜材料生长在衬底材料上,所述的BiAlO<Sub>3</Sub>薄膜材料的空间群为R3c,晶格常数为a=7.611?,c=7.942?;采用前驱体空间分隔式的自限制性表面吸附反应得到,所述表面吸附反应特指朗缪尔吸附机制的不可逆的化学吸附反应。通过采用本发明的制备BiAlO<Sub>3</Sub>薄膜材料的方法,可以实现BiAlO<Sub>3</Sub>薄膜生长厚度的精确可控,且BiAlO<Sub>3</Sub>薄膜表面平整度大大优于现有技术。由于各种气体的通入是连续不断、且流速恒定,薄膜的厚度仅取决于衬底转过的次数,工艺变得极为简单、可靠。
商品类型 | 专利 | 申请号 | ZL201510767278.6 | IPC分类号 | |
专利类型 | 发明 | 法律状态 | 有权 | 技术领域 | |
交易方式 | 开放许可 | 专利状态 | 已授权 | 专利权人 | |