本发明涉及太阳电池技术领域，尤其涉及一种钝化接触晶硅太阳电池制造装置及方法，该装置包括依次连通的预处理腔、多个镀膜腔和出片腔，多个镀膜腔的两端均连通有过渡腔，过渡腔的两端均具有插板阀；预处理腔、镀膜腔、过渡腔和出片腔内还具有传输机构、加热机构和通气口，用于载板的传输以及温度和压强的维持；镀膜腔内具有多个线性离子喷射机构，多个线性离子喷射机构包括等离子发生器以及进气口和朝向传输机构设置的阵列喷嘴，镀膜腔内还具有多个设置在阵列喷嘴中间的惰性气体源喷射机构。本发明通过镀膜腔内间隔设置的反应等离子体阵列喷嘴和惰性气体源喷射机构，形成了连续均匀的气场结构，实现了连续高速镀膜，提高了镀膜的质量和可控性。

本发明涉及太阳电池技术领域，尤其涉及一种钝化接触晶硅太阳电池制造装置及方法，该装置包括依次连通的预处理腔、多个镀膜腔和出片腔，多个镀膜腔的两端均连通有过渡腔，过渡腔的两端均具有插板阀；预处理腔、镀膜腔、过渡腔和出片腔内还具有传输机构、加热机构和通气口，用于载板的传输以及温度和压强的维持；镀膜腔内具有多个线性离子喷射机构，多个线性离子喷射机构包括等离子发生器以及进气口和朝向传输机构设置的阵列喷嘴，镀膜腔内还具有多个设置在阵列喷嘴中间的惰性气体源喷射机构。本发明通过镀膜腔内间隔设置的反应等离子体阵列喷嘴和惰性气体源喷射机构，形成了连续均匀的气场结构，实现了连续高速镀膜，提高了镀膜的质量和可控性。